[发明专利]抗曝光有机光导体的激子发生层涂布液、有机光导体的制备方法及有机光导体在审
| 申请号： | 201710475776.2 | 申请日： | 2017-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN107247392A | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 余荣清;张培兴;范雪峰;葛美珍 | 申请（专利权）人： | 苏州恒久光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03G5/07 | 分类号： | G03G5/07 |
| 代理公司： | 南京艾普利德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32297 | 代理人： | 陆明耀 |
| 地址： | 215011 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明揭示了抗曝光有机光导体的激子发生层涂布液、有机光导体的制备方法及有机光导体，包括酞菁氧钛、聚乙烯醇缩丁醛树脂，还包括光稳定剂、光屏蔽剂以及防老剂。本发明设计精巧，在激子发生层中添加光屏蔽剂能够有效的阻隔过量激光的辐射，提高抗曝光性能；而光稳定剂以及防老剂的导入保证抗曝光的同时，也使整个激子发生层整体性能的稳定，从而能够有效保证使用该涂布液的有机光导体的光电性能，同时有利于降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 有机 导体 激子 发生 层涂布液 制备 方法 | ||
【主权项】：
抗曝光有机光导体的激子发生层涂布液，其特征在于：包括酞菁氧钛、聚乙烯醇缩丁醛树脂，还包括光稳定剂、光屏蔽剂以及防老剂；所述酞菁氧钛与聚乙烯醇缩丁醛树脂的质量比例为1：2‑3：1；所述光稳定剂的质量分数为0.1%‑2%；所述光屏蔽剂的质量分数为0.5%‑5%；所述防老剂的质量分数为0.1%‑1%。
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