[发明专利]一种除去氧化石墨烯合成体系中硫酸根杂质的方法有效

专利信息
申请号: 201710457826.4 申请日: 2017-06-16
公开(公告)号: CN107364856B 公开(公告)日: 2019-03-29
发明(设计)人: 杨晓晶;邵百一;刘盛堂 申请(专利权)人: 北京师范大学;北京师大科技园科技发展有限责任公司
主分类号: C01B32/198 分类号: C01B32/198
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 张函;王春伟
地址: 100875 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供了一种除去氧化石墨烯合成体系中硫酸根杂质的方法,包括以下步骤:(1)采用Hummers法或改进的Hummers法合成氧化石墨烯,得到氧化石墨烯合成体系;(2)将密度大于水,且不与水混溶的有机溶剂与含有金属阳离子的水溶液混合,得到硫酸根洗涤液;所述硫酸根洗涤液分为上层水层和下层有机溶剂层;其中所述金属阳离子能够与硫酸根形成沉淀;(3)将步骤(1)中的氧化石墨烯合成体系输送到所述硫酸根洗涤液中靠近两层交界处的水层中,静置,以使氧化石墨烯合成体系中的氧化石墨烯沉入所述有机溶剂层中。本发明提供的除去氧化石墨烯合成体系中硫酸根杂质的方法,更简洁,更适于工业生产。
搜索关键词: 一种 除去 氧化 石墨 合成 体系 硫酸 杂质 方法
【主权项】:
1.一种除去氧化石墨烯合成体系中硫酸根杂质的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)采用Hummers法或改进的Hummers法合成氧化石墨烯,合成结束后,得到氧化石墨烯合成体系;(2)将密度大于水,且不与水混溶的有机溶剂与含有金属阳离子的水溶液混合,得到硫酸根洗涤液;所述硫酸根洗涤液分为上层水层和下层有机溶剂层;其中所述金属阳离子能够与硫酸根形成沉淀;(3)将步骤(1)中的氧化石墨烯合成体系输送到所述硫酸根洗涤液中靠近两层交界处的水层中,静置,以使氧化石墨烯合成体系中的氧化石墨烯沉入所述有机溶剂层中。
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