[发明专利]一种Sn‑113/In‑113m发生器及制备方法

摘要

本发明公开了一种Sn‑113/In‑113m发生器及制备方法，制备方法包括1)向氯化锡[113Sn]水溶液中，加入液溴水溶液，用酸水溶液调节放射性浓度；2)在铅防护罐内设置支撑架，将支撑架与加热片连接；加热片与电源插头连接；3)在玻璃分离柱内放入纳米氧化锆微粒，将步骤1)获得的液体，从进液管加入，再用氯化钠水溶液淋洗，淋洗后，将装有吸附锡[113Sn]的纳米氧化锆微粒的玻璃分离柱装入步骤2)获得的装置内，将加热片与玻璃分离柱中部的外表面接触。本发明具有淋洗效率高，漏穿率低，淋洗体积小；淋洗速率快，可使工作人员尽可能缩短操作时间，降低受辐照风险。

主权项

一种Sn‑113/In‑113m发生器的制备方法，其特征是包括如下步骤：1)在容器中，放入pH＝0.5‑2、0.1‑3mL放射性浓度为1.85‑3.7GBq/mL的氯化锡[113Sn]水溶液，加入1‑6mL、1‑6M的酸水溶液，加入0.5‑2.5mL质量浓度99％的液溴水溶液或质量浓度10％次氯酸钠水溶液，再用1‑6M的酸水溶液调节至放射性浓度为185‑370MBq/mL；2)在铅防护罐(7)内设置支撑架(9)，将支撑架与加热片(4)连接；加热片(4)与电源插头(5)连接；3)取玻璃分离柱(3)，在玻璃分离柱底部设置筛板(1)，在筛板1上放上玻璃毛，再放入5‑6g纳米氧化锆微粒(8)，将进液管(2)的一端设置在所述玻璃分离柱的上部，出液管(6)的一端设置在玻璃分离柱的下部，将步骤1)获得的液体，以0.5‑1mL/min的流速从进液管(2)加入，再用pH＝0.5‑2的质量浓度为0.9％的氯化钠水溶液淋洗，淋洗后，得到装有吸附锡[113Sn]的纳米氧化锆微粒的玻璃分离柱，将所述装有吸附锡[113Sn]的纳米氧化锆微粒的玻璃分离柱装入步骤2)获得的装置内，将加热片(4)与玻璃分离柱中部的外表面接触，得到Sn‑113/In‑113m发生器。