[发明专利]一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法有效
| 申请号： | 201710417343.1 | 申请日： | 2017-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN107203671B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 冯小辉;刘伟平;张春阳;李起宏;谢光益 | 申请（专利权）人： | 北京华大九天软件有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/31 | 分类号： | G06F30/31 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 王金双 |
| 地址： | 100102 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法，包括步骤：（1）根据首个阵列标记，以及阵列标记的行数，得到对应行数的一维列阵列标记；（2）根据一维列阵列标记的行间距，以及阵列标记的列数，得到对应行间距的二维阵列标记；（3）根据阵列标记的列间距，得到对应列间距的二维阵列标记。本发明的在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法，根据用户的需求，按照指定的创建位置、间距以及方向，一次性完成所有阵列标记的创建，提高了用户的工作效率，加速了芯片的制造速度，并且还能够防止创建标记时出现偏差，造成signoff（流片）时的电气规则检查错误。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 集成电路 版图 快速 创建 阵列 标记 方法 | ||
【主权项】：
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