[发明专利]一种基于IMD技术的保护膜及其制备方法在审
申请号: | 201710413156.6 | 申请日: | 2017-06-05 |
公开(公告)号: | CN107274781A | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 梁国豪;郭永达;李雄 | 申请(专利权)人: | 深圳市信濠精密技术股份有限公司 |
主分类号: | G09F7/16 | 分类号: | G09F7/16;H04M1/02 |
代理公司: | 深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙)44319 | 代理人: | 李丽君 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于IMD技术的保护膜及其制备方法,该方法步骤包括提供PET膜,并在PET膜的一侧涂覆设置离型剂,烘干固化,得到离型层;以PET膜及离型层为载体,在载体上依次涂覆设置UV层、油墨层、贴合胶层及塑胶层,形成第一保护膜;待第一保护膜烘干固化成型后,将第一保护膜的PET膜及离型层剥离,剩余部分形成保护膜。通过本发明,能够降低保护膜的厚度以减少其质量,同时可保证电镀操作时不脱层。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 imd 技术 保护膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于IMD技术的保护膜的制备方法,其特征在于,包括:提供PET膜,并在所述PET膜的一侧涂覆设置离型剂,烘干固化,得到离型层;以所述PET膜及所述离型层为载体,在所述载体上依次涂覆设置UV层、油墨层、贴合胶层及塑胶层,形成第一保护膜;待所述第一保护膜烘干固化成型后,将所述第一保护膜的PET膜及离型层剥离,剩余部分形成所述保护膜。
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