[发明专利]一种阴离子模板剂合成多级孔HKUST-1材料的方法

摘要

本发明公开了一种阴离子模板剂合成多级孔HKUST‑1材料的方法。该方法将均苯三甲酸溶于乙醇中，搅拌，得溶液A；将Cu（NO）3·3H2O加入去离子水中，搅拌，然后加入模板剂，搅拌，得溶液B；溶液A和溶液B混合，继续搅拌。混合液装入不锈钢高压反应釜中，进行水热合成反应；抽滤，鼓风干燥箱中干燥；乙醇浸洗后抽滤，真空干燥，制得多级孔HKUST‑1材料。本发明加入阴离子表面活性剂十二烷基苯磺酸钠（C18H29NaO3S）作为结构导向剂成功合成出多级孔HKUST‑1，十二烷基苯磺酸钠（C18H29NaO3S）相对于其他模板剂毒性小，价格低，且合成的产物不仅产量高，还具有丰富集中的介孔。在大分子催化、吸附及分离等方面有着较好的应用前景。

主权项

一种阴离子模板剂合成多级孔HKUST‑1材料的方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）将均苯三甲酸溶解于乙醇中，搅拌，得溶液A；（2）将Cu(NO3)2·3H2O溶解于水中，搅拌，得Cu(NO3)2·3H2O溶液；（3）在Cu(NO3)2·3H2O溶液中加入模板剂十二烷基苯磺酸钠，继续搅拌，得溶液B；（4）将溶液A和溶液B混合，继续搅拌，得混合溶液；（5）将步骤（4）得到的混合溶液装入不锈钢高压反应釜中，进行水热合成反应；（6）将反应产物抽滤，再置于鼓风干燥箱中干燥；（7）将干燥后的固体浸洗，再抽滤，真空干燥箱中干燥，制得多级孔HKUST‑1材料。