[发明专利]一种抑制熔融硅液面振动的石英坩埚及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710394434.8 申请日: 2017-05-29
公开(公告)号: CN107287652A 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 向真雄;吴文垚;司继成 申请(专利权)人: 德令哈晶辉石英材料有限公司
主分类号: C30B15/10 分类号: C30B15/10;C30B29/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 817000 青海省海西蒙古族藏族*** 国省代码: 青海;63
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摘要: 一种抑制熔融硅液面振动的石英坩埚,其壁部和弯曲部的内表面在垂直方向和水平方向分布有微凹槽,微凹槽的宽度为0~500μm,微凹槽的深度为0~500μm;垂直方向微凹槽之间的间隔为5~20mm,水平方向微凹槽之间的间隔为0.1~5mm;凹槽的横截面为半圆形、矩形或半椭圆形中的任意一种;所述的微凹槽形成方法为在坩埚制备的高温熔制工艺结束后,用二氧化碳气体激光器发射激光束对坩埚内表面特定区域加热使部分区域二氧化硅升华来形成凹槽;或者用钻石钻头在水冷的条件下对表面的特定区域加工形成凹槽;或者用氢氧焰对表面的特定区域局部加热使部分区域二氧化硅升华来形成凹槽;或者用加热到高温的等离子气体对表面的特定区域加热形成凹槽。此坩埚能够有效地保证拉晶工序的顺利进行,并提高成晶率。
搜索关键词: 一种 抑制 熔融 液面 振动 石英 坩埚 及其 制备 方法
【主权项】:
一种抑制熔融硅液面振动的石英坩埚,是以纯度为99.999%及以上的天然石英砂或合成石英砂经高温熔制工艺而成,包含壁部,弯曲部和底部,其特征在于:壁部和弯曲部的内表面在垂直方向和水平方向分布有微凹槽,微凹槽的宽度为0~500μm,微凹槽的深度为0~500μm。
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