[发明专利]一种能提高西瓜皮鲜艳且高消耗秸秆的玉米套种西瓜的种植方法在审

专利信息
申请号: 201710359889.6 申请日: 2017-05-20
公开(公告)号: CN107258264A 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 张辉 申请(专利权)人: 蚌埠市涂山绿园蔬菜科研专业合作社
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 合肥广源知识产权代理事务所(普通合伙)34129 代理人: 罗沪光
地址: 233000 安徽省蚌埠*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种能提高西瓜皮鲜艳且高消耗秸秆的玉米套种西瓜的种植方法,其包括如下步骤种植地施基肥整地,并作宽畦及窄墒,所述宽畦和窄墒间隔设置,在宽畦种植玉米,在窄墒上培育西瓜,并在玉米拔节和大喇叭口期间进行追肥,以及第一次现蕾期和成熟期进行追肥,另外日常管理和防病防虫等工作;本发明的方法简单,易于操作实现,且投入成本低,合理利用土地资源,还能利用秸秆增强土壤有机质,减少秸秆对环境的污染,避免土壤结构,改善土壤的酸碱性,另外亩产玉米900‑950kg,西瓜4800‑5200kg,用玉米和西瓜的生育期长短结合,提高单位面积效益,对环境条件的要求相辅相成,提高玉米单株产量,有利于降低西瓜的发病率。
搜索关键词: 一种 提高 西瓜皮 鲜艳 消耗 秸秆 玉米 套种 西瓜 种植 方法
【主权项】:
一种能提高西瓜皮鲜艳且高消耗秸秆的玉米套种西瓜的种植方法,其特征在于,其包括如下步骤:(1)对种植地亩施2400‑2800kg畜禽有机肥、800‑1000kg碎秸秆及50‑60kg三元复合肥,再对其深为25‑28cm的深翻、整平耙细,作成宽畦宽1‑0.8m,高20‑25cm的畦,并且宽畦间作窄墒,墒宽0.5‑0.8m,高20‑25cm,所述宽畦与窄墒间设有排水沟,排水沟宽20‑25cm,深10‑25cm;(2)先在窄墒上作移栽穴,穴距0.3‑0.4m,移栽穴6‑8cm深,先在移栽穴内浇满穴河水,再将经催芽后的西瓜籽置入移栽穴内,再填放5‑7cm厚的营养土,然后用田土覆盖营养土层,其土层上洒层草木灰,并用水打湿;(3)在高畦上作两行种植穴,穴行距0.8‑1m,穴距25‑30cm,穴深10‑15cm,在穴内摊铺厚度8‑10cm的营养土,其营养土上点播种子1‑2粒,其上再撒播一层厚为2‑4cm的营养土,再将其喷湿含水量达32‑36%,待出苗;(4)在玉米拔节期亩施10‑15kg尿素,大喇叭口期亩施20‑24kg尿素,追肥后对玉米进行灌溉,使土壤含水量达100%;(5)西瓜第一次现蕾期和成熟期各追肥一次,亩施尿素12‑14kg,并在西瓜膨大期保持土壤含水量达60%;(6)做好对玉米及西瓜的防虫防病工作。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蚌埠市涂山绿园蔬菜科研专业合作社,未经蚌埠市涂山绿园蔬菜科研专业合作社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710359889.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top