[发明专利]热调节单元、光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201710354580.8 | 申请日： | 2013-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN107300835B | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | J·H·W·雅各布斯;J·S·C·维斯特尔拉肯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种热调节单元(100)，用以热调节光刻设备中的衬底(W)，所述热调节单元包括：热调节元件(200)，所述热调节元件包括第一层(210)、第二层(220)、定位在第一层和第二层之间的热传递部件(230)以及用于在其上定位衬底的突起(260)，第一层在使用时面对衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和加强构件(110)，所述加强构件比热调节元件硬并且配置成支撑热调节元件以便减小其机械变形，其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的。 | ||
| 搜索关键词： | 调节 单元 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种热调节单元，用于热调节光刻设备中的衬底，所述热调节单元包括：热调节元件，所述热调节元件包括第一层、第二层、定位在第一层和第二层之间的热传递部件以及用于在其上定位衬底的突起，所述第一层在使用时面对所述衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和加强构件，所述加强构件比所述热调节元件硬，并且配置成支撑所述热调节元件、以便减小热调节元件的机械变形，其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的。
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