[发明专利]用于真空排污系统的控制装置及真空排污系统

摘要

本发明公开了一种用于真空排污系统的控制装置和真空排污系统，控制装置包括：壳体，其底部设有第一、二、三端口，内设带导通孔的内套管；触动机构，可移动地插设在壳体上；阀机构，可滑动地设置在壳体中，与触动机构连接且套设在内套管上，阀机构的下端设有开关第二端口的第一封堵件，阀机构上设有空气通道，触动机构为自然状态时，第一封堵件打开第一端口，第一、二端口导通形成空气回路，空气通道与内套管的导通孔阻断，第一、三端口隔断，触动机构为被按压状态时，第一封堵件封堵第一端口，第一、二端口隔断，空气通道与内套管的导通孔导通，第一、三端口导通形成真空回路。本发明的控制装置结构简单、易装配、使用寿命长，且真空利用率高。

主权项

1.一种用于真空排污系统的控制装置，其特征在于，包括：壳体，所述壳体为一空心结构，其内部设有一腔室，且所述壳体的底部设有与所述腔室连通的第一端口，第二端口和第三端口，所述壳体的腔室内还设有一内套管，所述内套管设置在所述第三端口处且与所述第三端口连通，所述内套管上设有导通孔；触动机构，可移动地插设在所述壳体的顶部上，且伸入至所述壳体的腔室中；阀机构，与所述触动机构连接，可滑动地设置在所述壳体的腔室中，且套设在所述内套管上，所述阀机构靠近所述第二端口的端面上设有一用于封堵所述第二端口的第一封堵件，所述阀机构上设有一空气通道，所述空气通道的一端与所述第一端口连通；当所述触动机构处于自然状态时，所述第一端口和第二端口导通形成一空气回路，所述阀机构上的空气通道与所述内套管的导通孔阻断，所述第一端口和第三端口阻断；当所述触动机构处于被按压状态时，所述第一封堵件封堵所述第二端口，所述第一端口和第二端口阻断，所述阀机构上的空气通道与所述内套管的导通孔导通，所述第一端口和第三端口导通形成一真空回路。