[发明专利]电场导向下的小孔内壁真空离子镀方法有效
| 申请号： | 201710328936.0 | 申请日： | 2017-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN107164736B | 公开（公告）日： | 2019-02-19 |
| 发明（设计）人： | 方健灵;龚蔚 | 申请（专利权）人： | 合肥开泰机电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/46 |
| 代理公司： | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人： | 胡剑辉 |
| 地址： | 230601 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种电场导向下的小孔内壁真空离子镀方法，在基片的背面设置接电的辅助阴极，利用辅助阴极引导等离子体中扩散出来的阳离子穿过基片中小孔后趋向辅助阴极，从而在孔壁沉积形成镀膜。本发明是利用电场对离子的导向作用，在小孔内壁沉积金属或非金属的真空离子镀工艺方法，可以解决小孔、深孔内壁不能离子镀膜的难题。 | ||
| 搜索关键词： | 电场 导向 小孔 内壁 真空 离子镀 方法 | ||
【主权项】：
1.电场导向下的小孔内壁真空离子镀方法，其特征在于：采用真空离子镀设备进行真空离子镀时，基片不通电或基片接地，基片的正面进行镀膜，基片的背面设置接电的辅助阴极，利用辅助阴极引导等离子体中的阳离子穿过基片中小孔后趋向辅助阴极，部分阳离子在穿过小孔时与孔壁碰撞沉积形成镀膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥开泰机电科技有限公司，未经合肥开泰机电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710328936.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
