[发明专利]一种基于等离子体改善反光热熔膜与基材表面粘结力的方法在审
| 申请号： | 201710324024.6 | 申请日： | 2017-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN107139509A | 公开（公告）日： | 2017-09-08 |
| 发明（设计）人： | 邬钦崇;邬明旭;全峰 | 申请（专利权）人： | 深圳优普莱等离子体技术有限公司 |
| 主分类号： | B29C71/04 | 分类号： | B29C71/04;B29C65/02;B08B5/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于等离子体改善反光热熔膜与基材表面粘结力的方法，通过等离子体对热熔膜和基材进行预处理，借助等离子体产生的带有大量高能电子、离子和自由基等对热熔膜和基材表面进行活化，将活化后的基材按照后续原有工艺进行热压后撕掉表面离型纸即可。本发明是一种应用于功能性面料复合、商标热贴合等生产过程中，改善基材与待贴合物界面粘结力的新方法，这种方法不改变原有生产过程、工艺和生产模式，工艺简单，可操作性强，无污染、无排放，属于绿色干式加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 等离子体 改善 光热 基材 表面 粘结 方法 | ||
【主权项】：
一种基于等离子体改善反光热熔膜与基材表面粘结力的方法，其特征在于：包括前处理、等离子体表面活化处理、热压贴合以及撕掉离型纸、裁剪缝纫四大步骤，具体包括：步骤一、通过等离子体对热熔膜和基材进行预处理；步骤二、借助等离子体产生的带有大量高能电子、离子和自由基等对热熔膜和基材表面进行活化；步骤三、将活化后的基材按照后续原有工艺进行热压贴合；步骤四、撕掉离型纸、裁剪缝纫。
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