[发明专利]用于3D成像的激光阵列有效
| 申请号： | 201710309222.5 | 申请日： | 2017-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN106972347B | 公开（公告）日： | 2019-04-09 |
| 发明（设计）人： | 王兆民;闫敏;许星 | 申请（专利权）人： | 深圳奥比中光科技有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/42 | 分类号： | H01S5/42;G03B15/02;G03B35/00 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于3D成像的激光阵列、用于3D成像的激光阵列的图案设计方法、激光投影装置及3D成像设备，其中用于3D成像的激光阵列包括：在半导体衬底上以二维阵列形式排列的多个VCSEL光源；所述二维阵列的排布方式是通过至少一个子阵列旋转复制的形式产生，以简单地旋转复制子阵列的形式获取到的二维阵列的排布方式沿任一方向上的包含了其他任何象限的子区域均具有不相关性，二维阵列对应的是VCSEL光源的分布情况，从而分布在半导体衬底表面的VCSEL光源具有极高的不相关性，解决了现有技术中用于3D成像的VCSEL光源的不相关性低的问题，本发明的激光阵列主要应用在深度相机中。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 成像 激光 阵列 | ||
【主权项】：
1.一种用于3D成像的激光阵列，其特征在于，包括：在半导体衬底上以二维阵列形式排列的多个VCSEL光源；所述二维阵列的排布图案是通过至少一个不规则排列的子阵列旋转复制的形式产生的不相关图案；所述不相关图案是指图案中沿某一个方向维度上各个子区域都具有较高的唯一性。
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