[发明专利]一种胡萝卜高产的种植方法

摘要

本发明涉及种植领域，特别是涉及一种胡萝卜高产的种植方法。包括以下步骤选择胡萝卜良种、合理密植、整地和土壤消毒、沟底施肥、晒种、播种、肥料管理、杂草管理、铺反光膜、收获；本发明所述的一种胡萝卜高产的种植方法，通过在胡萝卜种植过程中进行合理追肥，铺设反光膜，能够促进胡萝卜生长，从而提高胡萝卜的产量，产出的胡萝卜具有丰富的口感和优良的品质，追肥中氮磷钾的合理配比，大大提高了肥料利用率，促使胡萝卜的肉质根加速生长，从而大大提高本发明的产量。

主权项

一种胡萝卜高产的种植方法，其特征在于，包括以下步骤：1）选择胡萝卜良种；2）合理密植，垄作种植，等行距1垄四行，垄距53‑56cm,垄顶宽30‑40cm, 垄底宽40‑50cm，垄高20‑25cm,小行距8‑12cm,每亩播0.18—0.2公斤种子；3）整地和土壤消毒，深翻土地35‑40cm，土地均匀撒生石灰进行消毒，5‑7天后，再浅耕10‑12cm；4）沟底施肥，掏沟，沟宽8‑10cm，深12‑14cm，均匀施用有机肥撒于沟中后，进行覆土；5）晒种，将胡萝卜种子置于阳光下晒10‑12小时，在晒种时每隔1‑2小时翻动一次；浸种，将晒后的胡萝卜种子，倒入温度为28‑32℃，质量浓度为1.87%的氯化钾与氯化钠混合溶液中浸泡12‑14小时后，过滤，自然晾干，其中，氯化钾与氯化钠按1:2质量比例混合而成；6）播种，4月中下旬开始播种，采用胡萝卜点播机，每孔播胡萝卜种子一粒；7)肥料管理：第一次追肥：胡萝卜长出3‑4片真叶后，施农家肥、磷钾肥、速效氮肥；第二次追肥：胡萝卜定苗后，施硫酸铵、钾肥、硼肥；第二次追肥：胡萝卜根系膨大期，施硫酸镁、过磷酸钙、甲壳素、硼肥、微量元素；8）杂草管理：胡萝卜苗3‑4片真叶时，浅耕除草一次，浅耕的深度为5‑6cm,浅耕之后，喷洒质量浓度为0.34%的碳酸钠溶液；9）铺反光膜：将反光膜铺在垄坡的两侧；10）当胡萝卜外表饱满、表皮光滑，肉质饱满即可收获。