[发明专利]一种在涝渍地进行国槐下套种多层植物的方法在审
| 申请号： | 201710247170.3 | 申请日： | 2017-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN107047186A | 公开（公告）日： | 2017-08-18 |
| 发明（设计）人： | 吕克 | 申请（专利权）人： | 吕克 |
| 主分类号： | A01G17/00 | 分类号： | A01G17/00;A01G1/00;A01B79/02 |
| 代理公司： | 淮安市科文知识产权事务所32223 | 代理人： | 李杰 |
| 地址： | 223001 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在涝渍地进行国槐下套种多层植物的方法，包括以下步骤a.对涝渍地进行窄畦、深沟改造，畦宽60~80cm，畦面到沟底的距离大于50cm，沟宽45~50cm；b.将3‑4年苗龄的国槐移栽定植在畦上，行间距120~150cm，株间距180~220cm；c.在一列的每两株国槐之间栽植一株高度100cm以下的红叶石楠；d.在每畦的国槐与红叶石楠两侧高处栽植大豆。本发明的窄畦、深沟改造改善涝渍地的排水条件，降低土壤含水量，具备了植物生长的条件；国槐、红叶石楠和大豆套种，既能降低病虫害，又能相互促进生长，还能产生良好的经济效益，对涝渍地进行有效地利用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 进行 国槐 套种 多层 植物 方法 | ||
【主权项】：
一种在涝渍地进行国槐下套种多层植物的方法，其特征在于包括以下步骤：a. 对涝渍地进行窄畦、深沟改造，畦宽60~80cm，畦面到沟底的距离大于50cm，沟宽45~50cm；b. 将3‑4年苗龄的国槐移栽定植在畦上，行间距120~150cm，株间距180~220cm；c. 在一列的每两株国槐之间栽植一株高度100cm以下的红叶石楠小苗；d. 在每畦的国槐与红叶石楠两侧高处栽植大豆。
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