[发明专利]光谱分析装置和光谱分析方法有效
| 申请号： | 201710239657.7 | 申请日： | 2017-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN107367469B | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 西村克美 | 申请（专利权）人： | 株式会社堀场制作所 |
| 主分类号： | G01N21/31 | 分类号： | G01N21/31 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 鹿屹;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供光谱分析装置和光谱分析方法，在与大气压相比减压的状态下测量试样气体所含的规定成分的浓度时，能高精度求出规定成分的浓度，在测量试样气体所含的规定成分的浓度的光谱分析装置中，在与大气压相比减压的状态下测量试样气体所含的规定成分的吸光度，并且采用表示规定成分的吸光度和规定成分的浓度的关系的校准曲线、以及测量时的试样气体的压力与规定成分的浓度的关系式，算出规定成分的浓度，在将一方的轴设为压力轴、另一方的轴设为浓度轴的图表中，所述关系式与所述压力轴具有零以外的交点。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱分析 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光谱分析装置，测量试样气体所含的规定成分的浓度，所述光谱分析装置的特征在于，在与大气压相比减压的状态下测量所述试样气体所含的规定成分的吸光度，并且采用表示所述规定成分的吸光度和所述规定成分的浓度的关系的校准曲线、以及测量时的试样气体的压力与所述规定成分的浓度的关系式，算出所述规定成分的浓度，在将一方的轴设为压力轴、另一方的轴设为浓度轴的图表中，所述关系式与所述压力轴具有零以外的交点。
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