[发明专利]基于光场成像的三维测量方法

摘要

本发明公开了基于光场成像的三维测量方法，涉及光场成像应用技术领域，基于光场成像技术，获取深度信息需要对光场图像信息作重聚焦处理，得到清晰成像面的位置，计算得到相机系统对目标景物所成像的像距，遍历物体每一部分，得到物体深度信息，完成三维测量。本发明的方法可以定性和定量地对尺寸适当、具有规则形状变化的物体进行三维测量。

主权项

1.基于光场成像的三维测量方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、光场成像，利用光场相机获取图像的位置信息和方向信息，所述光场相机的透镜与CCD图像传感器之间设有微透镜阵列；步骤2、光场重聚焦，包括以下步骤：步骤21，将获得的位置信息和方向信息转化为标准的光场描述；步骤22，进行光场变换，对当前微透镜阵列所在平面的光场进行变换，改变成像平面的位置；步骤23，光场变换到图像，对于任何一个光场变换到图像，实质都是对光线的积分；步骤3、深度信息的获取，包括以下步骤：步骤31，对光场图像进行数字重聚焦，得到同一场景的图像序列；步骤32，利用清晰度评价函数，找到测量物体各部分成像最清晰的位置；步骤33，转换运算即可得到深度信息。步骤4、三维测量，经过重聚焦、清晰度评价、物体深度信息二维矩阵，即可完成对物体的三维测量。