[发明专利]一种可降低光阻气泡数量的晶圆背面涂布工艺有效
| 申请号： | 201710189875.4 | 申请日： | 2017-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN106842820B | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | 林重其;宋健 | 申请（专利权）人： | 厦门市三安集成电路有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 361100 福建省厦门*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可降低光阻气泡数量的晶圆背面涂布工艺，包括以下步骤：1）在晶圆背面涂覆稀释剂，润湿晶圆背面；2）在晶圆背面仍残留有稀释剂时，采用动态喷涂的喷头对晶圆背面进行首次喷涂光阻剂；3）采用动态喷涂的喷头对晶圆背面进行第二次喷涂光阻剂，直至完成预定的喷涂次数。本发明利用稀释剂除去晶圆涂布表面的脏污、颗粒和降低光阻剂的粘度，并采用动态喷涂的喷头进行光阻剂的涂布，改善光阻剂喷涂的均匀性，因此，本发明大大降低了晶圆背面涂布工艺中气泡的产生数量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 降低 气泡 数量 背面 工艺 | ||
【主权项】：
一种可降低光阻气泡数量的晶圆背面涂布工艺，其特征在于：包括以下步骤：1）在晶圆背面涂覆稀释剂，润湿晶圆背面；2）在晶圆背面仍残留有稀释剂时，采用动态喷涂的喷头对晶圆背面进行首次喷涂光阻剂；3）采用动态喷涂的喷头对晶圆背面进行第二次喷涂光阻剂，直至完成预定的喷涂次数。
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