[发明专利]用于大面积激光直写系统的多次迭代调平方法

摘要

本发明提供一种用于大面积激光直写系统的多次迭代调平方法，包括步骤：S1：获取待激光直写区域的三维数据，根据获取的三维数据进行平面拟合；S2：将S1拟合的平面与理想平面比较，通过容错拟合算法进行计算，指导执行器调平；S3：根据调平结果再次进行平面拟合，如果没达到设计精度要求则重复迭代，直至达到精度要求；S4：使执行器执行到最后一次迭代过程计算出的目标位置，进行激光直写。本发明提出的用于大面积激光直写系统的调平方法，可使得系统在金属薄膜、无机相变材料、光刻胶或复合薄膜等多种材料上的调平精度均达到100nm以内，有效保证了激光直写系统刻写激光的精确聚焦，从而大幅度提高样品大面积刻写的刻写质量和成品率。

主权项

1.一种用于大面积激光直写系统的多次迭代调平方法，其特征在于，包括步骤：S1：获取待激光直写区域的三维数据，根据获取的三维数据进行平面拟合；数据采集点呈方阵排列，根据获取的三维数据进行平面拟合的公式为z＝a0x+a1y+a2  (2)式中n为数据采集点的数量，n为4～400，x、y为数据采集点在笛卡尔坐标系下的二维坐标，z为传感器采集到的相应点的高度值；或，数据采集点呈环形排列，根据获取的三维数据进行平面拟合的公式为z＝a0r+a1θ+a2  (4)式中n为数据采集点的数量，n为4～400，r、θ为数据采集点在极坐标系下的二维坐标，z为传感器采集到的相应点的高度值；S2：将S1拟合的平面与理想平面比较，通过容错拟合算法进行计算，指导执行器调平；S3：根据调平结果再次进行平面拟合，与理想平面比较，如果没达到设计精度则重复上述步骤S1、步骤S2和根据调平结果再次进行平面拟合、与理想平面比较的过程，直至达到精度要求；S4：使执行器执行到最后一次迭代过程计算出的目标位置，开始进行激光直写。