[发明专利]一种覆地膜定穴移栽种植苦荞麦的方法在审
申请号: | 201710163876.1 | 申请日: | 2017-03-20 |
公开(公告)号: | CN107046985A | 公开(公告)日: | 2017-08-18 |
发明(设计)人: | 贾先根 | 申请(专利权)人: | 岳西县岳太苦荞麦制品有限公司 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00;A01G13/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 246600 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及一种覆地膜定穴移栽种植苦荞麦的方法,包括以下步骤(1)土地选择;(2)土地处理;(3)覆膜挖穴将塑料薄膜平整摊放到处理好的分块种植地块上,在塑料薄膜上挖基穴,基穴孔径为10‑12厘米,且基穴之间的行距为45‑55厘米,基穴底部施入农家肥,农家肥上添加草木灰,并浇洒少量清水;(4)麦苗移栽;(5)虫害防治;(6)施肥处理;(7)苦荞麦收割。本发明采用覆地膜定穴移栽的方式种植苦荞麦,一方面可以防止苦荞麦生长过程中杂草丛生的现象,另一方面栽种出来的苦荞麦都是一丛一丛的,便于成熟后的收割,为苦荞麦种植提供了一种便捷式的种植方式,间接的提高了苦荞麦种植的效率和产量。 | ||
搜索关键词: | 一种 地膜 移栽 种植 荞麦 方法 | ||
【主权项】:
一种覆地膜定穴移栽种植苦荞麦的方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)土地选择:选择土质疏松且土壤通风性较好的平坦土地作为种植地块,且要求土壤养分充足和保水力强;(2)土地处理:将种植地块进行翻新,翻新以深耕为主,深耕深度为15~20厘米,曝晒3‑4天,曝晒后对土块进行敲碎平整处理,并对种植地块进行分块,种植地块四周进行挖排水沟;(3)覆膜挖穴:将塑料薄膜平整摊放到处理好的分块种植地块上,塑料薄膜四周采用木桩进行固定,在塑料薄膜上挖基穴,基穴孔径为10‑12厘米,且基穴之间的行距为45‑55厘米,基穴底部施入农家肥,农家肥上添加草木灰,并浇洒少量清水;(4)麦苗移栽:将生长高度达到10‑15厘米的苦荞麦幼苗移栽到步骤(3)的基穴中,并将基穴周围的挖穴翻新土壤覆盖到基穴内,对移栽后的苦荞麦幼苗进行定苗处理;(5)虫害防治:幼苗期需定期挥洒熟石灰粉,并用60%退菌特和40%多菌灵的混合液浇灌根部,开花期喷洒用于防治花叶软腐病的波尔多液,果实期喷洒千分之一浓度的托布津;(6)施肥处理:当苦荞麦生长到30‑35厘米高度时,施氮肥8‑10千克/亩,磷肥12‑15千克/亩,钾肥14‑16千克/亩;(7)苦荞麦收割:当苦荞麦成熟后,人工采用镰刀进行收割。
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