[发明专利]一种含多孔PMMA粒子的卸妆乳的配方以及制备工艺在审

专利信息
申请号: 201710136426.3 申请日: 2017-03-08
公开(公告)号: CN106580734A 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 张仕英 申请(专利权)人: 张仕英
主分类号: A61K8/81 分类号: A61K8/81;A61K8/92;A61K8/31;A61K8/9789;A61K8/67;A61Q1/14;A61Q19/00
代理公司: 广州天河万研知识产权代理事务所(普通合伙)44418 代理人: 刘强,陈轩
地址: 515041 广东省汕*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 为了提高卸妆乳除去油脂能力,特别是对彩妆清洗能力,本发明提供了一种含多孔PMMA粒子的卸妆乳的配方以及制备工艺,其配方主要包括以重量百分比计的油酯10‑20%、乳化剂2.5‑7%、增稠剂0.5‑1%、保湿剂10‑18%、防腐剂0.2‑0.6%、目数为80‑90目多孔PMMA粒子5‑10%、pH调节剂0.1‑0.2%、精油0.1‑0.5%活性添加成分0.2%‑0.4%、及余量去离子水。上述成分经本发明提供的卸妆乳的制备方法得到的卸妆乳体系稳定、既起到安全高效的卸妆效果,并且使用后部分的天然油脂保留在皮肤上,能起到滋润肌肤的效果,让肌肤更加柔润、健康,对肌肤和环境更加安全环保。
搜索关键词: 一种 多孔 pmma 粒子 卸妆 配方 以及 制备 工艺
【主权项】:
一种含多孔PMMA粒子的卸妆乳的配方以及制备工艺,其特征在于所述的卸妆乳配方包括以重量百分比计的油酯10‑20%、乳化剂2.5‑7%、增稠剂0.5‑1%、保湿剂10‑18%、防腐剂0.2‑0.6%、目数为80‑90目多孔PMMA粒子5‑ 10%、pH调节剂0.1‑0.2%、活性添加成分0.2%‑0.4%、精油0.1‑0.5%及余量去离子水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张仕英,未经张仕英许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710136426.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top