[发明专利]掩模板、对位方法、显示面板、显示装置及其对盒方法有效
申请号: | 201710116532.5 | 申请日: | 2017-03-01 |
公开(公告)号: | CN106773525B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 赵娜 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G03F9/00 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩模板、对位方法、显示面板、显示装置及其对盒方法,该掩模板包括:基板,以及位于基板上的对位区域;其中,对位区域内设有第一对位标记和对位标尺;第一对位标记的图形与将要对位的膜层上的第二对位标记的图形相匹配;对位标尺经过第一对位标记与第二对位标记相对应的区域。本发明实施例提供的掩模板,通过在对位区域内设置对位标尺,且该对位标尺经过第一对位标记与第二对位标记相对应的区域,这样在对位过程中,可以准确的读取第一对位标记和第二对位标记之间的对位数据,避免由于对位标记边缘不清楚,造成对位数据不准确,导致对位失败的情况。 | ||
搜索关键词: | 模板 对位 方法 显示 面板 显示装置 及其 | ||
【主权项】:
一种掩模板,其特征在于,包括:基板,以及位于所述基板上的对位区域;其中,所述对位区域内设有第一对位标记和对位标尺;所述第一对位标记的图形与将要对位的膜层上的第二对位标记的图形相匹配;所述对位标尺经过所述第一对位标记与所述第二对位标记相对应的区域。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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