[发明专利]一种紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皱纹的方法

摘要

本发明公开了一种紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皱纹的方法，主要是针对以聚二甲基硅氧烷(PDMS)弹性体为基底，旋涂溶有一定质量分数可降解高分子的有机溶剂溶液构筑的软硬复合体系，并通过施加外界应力使其表面产生皱纹形貌；然后，利用高分子薄膜的光降解反应，引起膜/基复合系统中应力场的扰动和松弛，从而实现表面皱纹图案的消除。对已有的表面皱纹进行紫外光照，通过改变光照剂量等实验参数，控制光照剂量与界面残余应力的相对大小，可以调控复合体系表面皱纹的消除与否。本方法操作简便，洁净高效，在复合材料领域防止材料失效和提高材料使用寿命方面有着广泛的应用前景。

主权项

1.一种紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皱纹的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、将PDMS预聚体和交联剂按质量比为10:1混合后，充分搅拌形成均匀的预聚合物，将上述预聚合物在真空泵中脱气后浇筑到表面皿中，70℃下加热4h进行热交联固化，得到PDMS弹性体；步骤二、将步骤一得到的PDMS弹性体进行氧等离子体表面活化处理，然后旋涂溶有0.5‑5％质量分数可降解高分子的有机溶剂溶液，其中，可降解高分子是聚乳酸或是聚甲基丙烯酸甲酯，真空泵中脱气除去残余的有机溶剂，得到软硬复合体系；步骤三、对步骤二得到的软硬复合体系施加0.02‑0.3MPa的压缩应力使其表面产生皱纹形貌，步骤四、对步骤三得到的表面起皱的软硬复合体系进行紫外光照，光照剂量为9‑60 J cm^‑2，从而消除软硬复合体系的表面皱纹图案。