[发明专利]干式工艺处理方法在审
| 申请号： | 201710111124.0 | 申请日： | 2017-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN107865974A | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 森田修介;千草尚;横田昌广;西村孝司;东间秀之 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | A61L2/22 | 分类号： | A61L2/22;A61L2/24;A61L2/20;A61L2/26;A61L9/14;A61L9/015;A23B7/144;A01C1/00;A61L101/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 周欣,陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供能够不将对象物润湿地进行杀菌或除臭、安全性高的干式工艺处理方法。根据实施方式，干式工艺处理方法是通过使盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、且pH为5～8的次氯酸水以气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫的状态散发到规定空间内，从而不将存在于上述空间内的对象物润湿地使次氯酸成分到达，进行上述对象物的杀菌或除臭的干式工艺处理方法。 | ||
| 搜索关键词： | 工艺 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种干式工艺处理方法，其中，通过将盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、且pH为5～8的次氯酸水以变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫的状态散发到规定空间内，从而使次氯酸成分到达存在于所述规定空间内的对象物上，不将所述对象物润湿地进行杀菌或除臭。
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