[发明专利]基于膜层增材加工的原子磁力传感器制备方法有效
| 申请号： | 201710108236.0 | 申请日： | 2017-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN106932737B | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 曾祥堉;单新志;王冠学;苗玉;高秀敏 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | G01R33/00 | 分类号： | G01R33/00;G01R33/035 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 吴宝根;王晶 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于膜层增材加工的原子磁力传感器制备方法，基于微纳减材加工和3D材料增材加工原理，结合光控导电机理，在透明基底上加工出微纳微腔体阵列每个微纳微腔体包括工作介质处藏区和磁力传感区，完成内部膜层加工；在微腔体内工作介质处藏区加工处碱金属符合材料沉积点；进行气体注入和密封形成封闭微纳微腔体阵列；然后进行外部光电敏感膜层加工，构建光控导电层；在外部集成微小光源和光电传感器；利用全光原子磁力传感行为，进行时序控制，实现光泵浦光调控的高空间高时间分辨率磁场传感制备。具有制备工艺简单、结构简洁、无需低温制冷系统、灵敏度高、检测信息量大、空间分辨率高、灵活性好、可实现小型化等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 膜层增材 加工 原子 磁力 传感器 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于膜层增材加工的原子磁力传感器制备方法，其特征在于，其步骤为：首先，基于微纳减材加工和3D材料增材加工原理，结合光控导电机理，根据所需磁场检测要求，进行磁力传感器微结构设计，在透明基底上加工出微纳微腔体阵列，每个微纳微腔体包括工作介质处藏区和磁力传感区，工作介质处藏区和磁力传感区相互连通，并且完成内部膜层加工；在微纳微腔体的工作介质处藏区加工处碱金属符合材料沉积点，进行气体注入和密封形成封闭微纳微腔体阵列；然后进行外部光电敏感膜层加工，构建光控导电层；再外部集成微小光源以及光电传感器，光源泵浦光源、加热光源和检测光源；利用全光原子磁力传感行为，进行时序控制，实现光泵浦光调控的高空间高时间分辨率磁场传感制备。
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