[发明专利]一种分子筛膜的合成方法

摘要

本发明公开了一种分子筛膜的合成方法，通过在载体上合成一层sigma‑1晶体层，继而在其上合成DD3R晶体层从而合成出分子筛膜，采用该方法制备的分子筛膜不易产生其他类型晶体，保持了分子筛膜晶体的纯净度，提高了渗透性能。

主权项

一种分子筛膜的合成方法，其特征在于包括以下步骤：（1）将载体在去离子水中浸泡、烘干以备用；（2）将sigma‑1分子筛颗粒加入乙醇中以制备晶种涂覆液，其中sigma‑1的质量分数为1‑10%，并超声、搅拌处理；（3）将晶种液涂覆在载体外表面，重复1‑5次，烘干制备接种载体；（4） 以金刚烷胺：二氧化硅：乙二胺：氧化铝：氢氧化钠：水摩尔比为10:60:180：2: 3: 6000的比例配制制膜液A；（5）将接种载体置于成膜釜中，倒入制膜液A以完全浸没接种载体；（6）在180℃温度下晶化，晶化时间为12‑36h以制备分子筛膜坯体A;（7）将晶化结束后的分子筛膜坯体A用去离子水冲洗、浸泡至表面pH接近中性，并烘干备用；（8）以金刚烷胺：二氧化硅：乙二胺：水摩尔比为 9:100:150:4000的摩尔比配制制膜液B；（9）将分子筛膜坯体A置于成膜釜中，倒入制膜液B以完全浸没分子筛膜坯体A；（10）在160℃温度下晶化，晶化时间为8‑24h以制备分子筛膜坯体B;（11）将晶化结束后的分子筛膜坯体B用去离子水冲洗、浸泡至表面pH接近中性，并烘干；（12）将烘干后的分子筛膜坯体B在高温焙烧炉中焙烧以脱除金刚烷胺从而制备分子筛膜；其中sigma‑1晶体层的厚度为1‑1.3μm。