[发明专利]一种由聚焦堆栈重建光场的反投影方法和装置有效

专利信息
申请号: 201710090372.1 申请日: 2017-02-20
公开(公告)号: CN106934110B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 邱钧;刘畅 申请(专利权)人: 北京信息科技大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06T17/00;G06F111/10
代理公司: 北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346 代理人: 石辉
地址: 100192 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种由聚焦堆栈重建光场的滤波反投影方法和装置,主要包括:给出四维光场与聚焦堆栈的几何关系,建立由光场形成聚焦堆栈的投影模型,形成投影算子;以投影模型为基础,建立四维光场与聚焦堆栈的频域关系,形成傅立叶切片关系;基于傅立叶切片关系,建立由聚焦堆栈重建光场的滤波反投影和卷积反投影方法;选取优化的滤波函数和卷积函数重建光场。本发明的聚焦堆栈是探测器和镜头相对移动采集得到的图像序列,通过选取优化的滤波函数和卷积函数,可重建出高精度的四维光场。四维光场可实现相机拍摄视角下的三维重构,可以为虚拟现实和几何测量提供精确的三维结构信息。
搜索关键词: 一种 聚焦 堆栈 重建 投影 方法 装置
【主权项】:
一种由聚焦堆栈重建光场的滤波反投影方法,其特征在于,所述方法包括:建立四维光场,形成聚焦堆栈的投影模型,以形成投影算子,其中的所述聚焦堆栈是所述四维光场的二维投影;建立四维光场与聚焦堆栈的频域关系,形成聚焦堆栈平面图像的傅立叶变换对应频域的切片关系;聚焦堆栈重建四维光场的滤波反投影方法得到滤波函数,聚焦堆栈重建四维光场的卷积反投影方法得到卷积函数;根据所述滤波函数和所述卷积函数,重建四维光场。
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