[发明专利]清痘修护霜

摘要

本发明涉及一种护肤品，尤其是能够去除人体痘痘的外用膏体。本发明的一种清痘修护霜，由A、B、C、D、E、F、G组成；A由水、尼泊金甲酯、尿囊素、甜菜碱、壬二酸或壬二酸衍生物或壬二酸环糊精包合物中的一种、烟酰胺和乳糖酸组成，B由OLVEM 1000、硬脂酸甘油酯、异构十六烷烃、氮酮、DC‑345或KF‑995中的一种、2EHP或R7779中的一种组成，C由丙二醇和SEPINOV EMT10组成，D由苦参百部素和痤疮克星组成，E由水和己眯定二组成，F为赛比克305，G为香精。本发明的清痘修护霜采用植物为原料提炼配制而成，并不产生不良副作用，因此它具有安全可靠，使用方便，见效快等特点。

主权项

一种清痘修护霜，其特征在于：它由A、B、C、D、E、F、G组成；所述的A由水、尼泊金甲酯、尿囊素、甜菜碱、壬二酸或壬二酸衍生物或壬二酸环糊精包合物中的一种、烟酰胺和乳糖酸组成，其中以修护霜总重量计，尼泊金甲酯占0.1%‑0.5%，尿囊素占0.1%‑0.5%，甜菜碱占0.5%‑6%，壬二酸或壬二酸衍生物或壬二酸环糊精包合物占0.5%‑5%，烟酰胺占0.5%‑5%，乳糖酸占0.1%‑3%，水的量为修护霜总重量除去其它组分后的余量；所述的B由OLVEM 1000、硬脂酸甘油酯、异构十六烷烃、氮酮、DC‑345或KF‑995中的一种、2EHP或R7779中的一种组成，其中以修护霜总重量计OLVEM 1000占1%‑5%，硬脂酸甘油酯占1%‑5%，异构十六烷烃占1%‑6%，氮酮占0.5%‑3%，DC‑345或KF‑995占1%‑5%，2EHP或R7779占1%‑5%；所述的C由丙二醇和SEPINOV EMT10组成，其中以修护霜总重量计，丙二醇占3%‑8%，SEPINOV EMT10占0.5%‑3%；所述的D由苦参百部素和痤疮克星组成，其中以修护霜总重量计，苦参百部素占0.5%‑5%，痤疮克星占1%‑7%；所述的E由水和己眯定二组成，其中以修护霜总重量计，水占2%，己眯定二占0.05%‑0.3%；所述的F为赛比克305，占修护霜总重量的0.1%‑3%；所述的G为香精，占修护霜总重量的0.01%‑0.03%。