[发明专利]一种光刻胶涂布装置

摘要

本发明公开了一种光刻胶涂布装置，包括喷嘴、光电探测器、光学元件，以及控制器；其中，光学元件，用于将光电探测器出射的光线分为第一光线和第二光线，将第一光线和第二光线分别入射至已涂覆光刻胶的基板表面和未涂覆光刻胶的基板表面，并将已涂覆光刻胶的基板表面的第一反射光以及未涂覆光刻胶的基板表面的第二反射光分别入射至光电探测器；光电探测器，用于接收第一反射光与第二反射光的干涉光，并将干涉信息发送至控制器；控制器，用于根据干涉信息确定光刻胶的厚度变化量；根据厚度变化量调节喷嘴涂布光刻胶的速度。本发明利用干涉原理，实现了根据光刻胶厚度的均匀性实时调整光刻胶的涂布状态，避免光刻胶的厚度出现大的波动。

主权项

一种光刻胶涂布装置，其特征在于，包括：用于在基板上涂布光刻胶的喷嘴、光电探测器、位于所述光电探测器光学路径上的光学元件，以及与所述光电探测器电连接的控制器；其中，所述光学元件，用于将所述光电探测器出射的光线分为第一光线和第二光线，将所述第一光线和第二光线分别入射至已涂覆光刻胶的所述基板表面和未涂覆光刻胶的所述基板表面，并将已涂覆光刻胶的所述基板表面的第一反射光以及未涂覆光刻胶的所述基板表面的第二反射光分别入射至所述光电探测器；所述光电探测器，用于接收所述第一反射光与所述第二反射光发生干涉后得到的干涉光，并将所述干涉光的干涉信息发送至所述控制器；所述控制器，用于根据所述干涉信息确定所述基板上的光刻胶的厚度变化量；根据所述厚度变化量调节所述喷嘴涂布光刻胶的速度。