[发明专利]曝光装置、图像形成单元和图像形成装置有效
申请号: | 201710041735.2 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN106997162B | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 山村明宏 | 申请(专利权)人: | 冲电气工业株式会社 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 申屠伟进;刘春元 |
地址: | 日本东京港*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种图像形成装置,其具备:发光元件阵列,包含排列在第一方向且各自发出光的多个发光元件;以及透镜阵列,在与第一方向正交的第二方向上,与发光元件阵列对向配置,并且分别使由多个发光元件各自发出的多份光成像。在由透镜阵列成像的多份光中的至少1份光的第一方向的光量分布中,通过下列式(1)算出的对称性S满足下列式(2),并且也满足下列式(3)。S=|(HL‑HR)/(XE/2)|……(1);0≤S≤0.65……(2);Lo≠LB……(3)。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 图像 形成 单元 | ||
【主权项】:
一种曝光装置,其中,具备:发光元件阵列,包含排列在第一方向且各自发出光的多个发光元件;以及透镜阵列,在与所述第一方向正交的第二方向上,与所述发光元件阵列对向配置,并且分别使由所述多个发光元件各自发出的多份所述光成像,在由所述透镜阵列成像的多份所述光中的至少1份光的所述第一方向的光量分布中,通过下列式(1)算出的对称性满足下列式(2),并且也满足下列式(3),S=|(HL‑HR)/(XE/2)| ……(1)0≤S≤0.65 ……(2)Lo≠LB ……(3)其中,S:由透镜阵列成像的光的第一方向的光量分布的对称性XE:第一方向的发光元件的尺寸HL:由透镜阵列成像的光的第一方向的光量分布的、彼此相邻的极大点位置与第一极小点位置的差HR:由透镜阵列成像的光的第一方向的光量分布的极大点位置、与夹着该极大点位置与第一极小点位置相反的一侧的与该极大点位置相邻的第二极小点位置的差Lo:发光元件阵列与透镜阵列的距离LB:透镜阵列的焦距(从由透镜阵列成像的光的第一方向的光量分布算出的对比度为最大的距离)。
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