[发明专利]一次曝光的硬X射线光栅干涉仪的成像方法有效
申请号: | 201710019792.0 | 申请日: | 2017-01-11 |
公开(公告)号: | CN106618623B | 公开(公告)日: | 2019-08-30 |
发明(设计)人: | 王志立;刘达林 | 申请(专利权)人: | 合肥工业大学 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人: | 陆丽莉;何梅生 |
地址: | 230009 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种一次曝光的硬X射线光栅干涉仪的成像方法,其特征包括:1移动任一光栅,将硬X射线光栅干涉仪的工作点固定在光强曲线的左半腰或右半腰位置处;2分别获取背景投影图像和被成像物体的投影图像;3获取归一化的被成像物体的投影图像,并对归一化的投影图像进行取对数处理;4根据取对数处理结果,构建表达式进行一维傅立叶变换;5根据一维傅里叶变换结果,利用一维逆傅里叶变换,分别提取被成像物体的吸收和相移信号。本发明摒弃繁琐的光栅步进扫描,简化硬X射线光栅干涉仪的数据采集流程,对被成像物体进行一次曝光,提高成像效率,降低辐射损伤风险,从而为未来快速、低辐射剂量临床医学成像技术的发展提供新途径。 | ||
搜索关键词: | 一次 曝光 射线 光栅 干涉仪 成像 方法 | ||
【主权项】:
1.一种一次曝光的硬X射线光栅干涉仪的成像方法,所述硬X射线光栅干涉仪包括:X射线源(1)、源光栅(2)、相位光栅(3)、分析光栅(4)、探测器(5);在所述X射线源(1)和相位光栅(3)之间设置有所述源光栅(2)和被成像物体(6);所述源光栅(2)紧贴所述X射线源(1)设置;所述被成像物体(6)紧贴所述相位光栅(3)的内侧设置;在所述相位光栅(3)的外侧设置有所述分析光栅(4);所述分析光栅(4)与所述相位光栅(3)之间的轴向距离为d;所述探测器(5)紧贴在所述分析光栅(4)的外侧;其特征是,所述成像方法按如下步骤进行:步骤1、固定所述源光栅(2)、相位光栅(3)和分析光栅(4)中任意两个光栅,并沿着移动方向将第三个光栅移动自身四分之一的光栅周期,使得所述硬X射线光栅干涉仪的工作点固定在光强曲线的左半腰或右半腰位置处;所述移动方向为同时垂直于光轴和光栅栅条的方向;步骤2、启动所述X射线源(1)和探测器(5),设置曝光时间为t;利用所述探测器(5)按照所述曝光时间t获取背景投影图像I0后,关闭所述X射线源(1);步骤3、将所述被成像物体(6)放置到所述相位光栅(3)的视场中央,启动所述X射线源(1),并利用所述探测器(5)按照所述曝光时间t获取所述被成像物体(6)的投影图像ID后,关闭所述X射线源(1);步骤4、对所述被成像物体(6)的投影图像ID进行背景归一化处理,得到归一化的投影图像I′D,其中I′D=ID/I0;步骤5、对归一化的投影图像I′D进行取对数处理,得到处理结果ln(I′D);步骤6、对表达式K1‑ln(I′D)作一维傅里叶变换,得到变换结果F1;K1为常数,且满足K1=lnS(p2/4)或K1=lnS(‑p2/4),其中p2是所述分析光栅(4)的周期;S(p2/4)为所述硬X射线光栅干涉仪的光强曲线在p2/4处的数值;步骤7、根据变换结果F1,利用式(1)得到所述被成像物体(6)的相移信号的一维傅里叶变换结果F2:F2=F1/(1/γ+iK2λu/M) (1)式(1)中,γ是所述被成像物体(6)的折射率实部与虚部的比值;i表示虚数单位,i2=‑1;K2为常数,且满足
或
其中S′(p2/4)为所述硬X射线光栅干涉仪的光强曲线的一阶导数在p2/4处的数值,d是所述相位光栅(3)到所述分析光栅(4)的轴向距离;λ是所述X射线源(1)的有效波长;u是空间频率;M是所述硬X射线光栅干涉仪的几何放大率;步骤8、利用式(2)提取所述被成像物体(6)的吸收信号T:
式(2)中,
表示一维逆傅里叶变换;步骤9、利用式(3)提取所述被成像物体(6)的相移信号Φ:
以所述被成像物体(6)的吸收信号T和相移信号Φ作为所述成像方法的结果。
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