[其他]用于在基板上沉积层的装置

摘要

本公开涉及一种用于在基板上沉积层的装置，所述装置包括：具有用于处理基板的处理区域的真空腔室；至少两个可旋转溅射阴极的阵列，其中至少两个可旋转溅射阴极的第一可旋转溅射阴极具有第一磁体组件，而至少两个可旋转溅射阴极的第二可旋转溅射阴极具有第二磁体组件；以及控制器，所述控制器被配置成用于在第一旋转位置与第二旋转位置之间围绕第一旋转轴以第一振荡旋转运动旋转第一磁体组件，并且用于同时在第三旋转位置与第四旋转位置之间围绕第二旋转轴以第二振荡旋转运动旋转第二磁体组件，其中所述控制器被配置成用于在第一振荡旋转运动和第二振荡旋转运动的至少50％过程中在相反的旋转方向上旋转第一磁体组件和第二磁体组件，其中第一振荡旋转运动和第二振荡旋转运动具有小于5Hz的频率。

主权项

1.一种用于在基板上沉积层的装置，包括：真空腔室，具有用于处理基板的处理区域；至少两个可旋转溅射阴极的阵列，其中所述至少两个可旋转溅射阴极中的第一可旋转溅射阴极具有第一磁体组件以及所述至少两个可旋转溅射阴极中的第二可旋转溅射阴极具有第二磁体组件；以及控制器，被配置成用于在第一旋转位置与第二旋转位置之间围绕第一旋转轴以第一振荡旋转运动旋转所述第一磁体组件，并且用于同时在第三旋转位置与第四旋转位置之间围绕第二旋转轴以第二振荡旋转运动旋转所述第二磁体组件，其中所述控制器被配置成用于在所述第一振荡旋转运动和所述第二振荡旋转运动的至少50％的过程期间在相反的旋转方向上旋转所述第一磁体组件和所述第二磁体组件，其中所述第一振荡旋转运动和所述第二振荡旋转运动具有小于5Hz的频率。