[发明专利]用于表征尤其激光辐射的辐射场的测量装置和方法有效
| 申请号： | 201680089602.6 | 申请日： | 2016-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN110023726B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | F.基利奇;U.恩格兰德 | 申请（专利权）人： | 美天旎生物技术有限公司 |
| 主分类号： | G01J1/42 | 分类号： | G01J1/42;G01J1/04;G01J1/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张涛;刘春元 |
| 地址： | 德国比*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于表征辐射场（1）的辐射场测量装置（100），所述辐射场在纵向方向（z）上穿过介质（2），所述辐射场测量装置包括：具有至少一个探测器摄像机（11）的探测器装置（10），所述探测器摄像机包含至少一个探测器阵列（12），所述至少一个探测器阵列用于散射辐射（3）的图像记录，所述散射辐射在所述介质中通过所述辐射场（1）产生并且朝多个侧向方向定向，所述多个侧向方向与所述纵向方向（z）偏离；和重建装置（20），用于基于所述探测器装置（10）的图像信号来表征所述辐射场（1），其中，所述重建装置（20）被设置用于层析重建在所述辐射场（1）中的散射辐射（3）的场密度。也描述了辐射场测量装置的应用和一种在使用辐射场测量装置（100）的情况下表征辐射场（1）的方法，所述辐射场在纵向方向（z）上穿过介质（2）。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 表征 尤其 激光 辐射 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种辐射场测量装置（100），所述辐射场测量装置被配置用于表征辐射场（1），所述辐射场在纵向方向（z）上穿过介质（2），所述辐射场测量装置包括：‑ 具有至少一个探测器摄像机（11）的探测器装置（10），所述探测器摄像机包含至少一个探测器阵列（12），所述至少一个探测器阵列被布置用于散射辐射（3）的图像记录，所述散射辐射在所述介质中通过所述辐射场（1）产生并且朝多个侧向方向定向，所述多个侧向方向与所述纵向方向（z）偏离，和‑ 重建装置（20），所述重建装置被设置用于基于所述探测器装置（10）的图像信号来表征所述辐射场（1），其特征在于，‑ 所述重建装置（20）被设置用于层析重建所述辐射场（1）中的散射辐射（3）的场密度。
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