[发明专利]显微分析装置有效
| 申请号： | 201680082232.3 | 申请日： | 2016-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN108700730B | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 奥山修平 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;G01N21/27;G02B17/06;G02B21/00 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本国京都府京*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种显微分析装置，其特征在于，具备：聚光光学系统(5)，其使从测定区域的试样(2)发出的测定光聚光到第1聚光点；光阑板，其具有位于所述第1聚光点的开口(6)；椭圆凹面镜(8)，其使通过了所述开口(6)的测定光反射而聚光到第2聚光点；遮蔽板，其配置于所述第2聚光点之前，且形成有以下贯通孔(9a)：该贯通孔(9a)具有与该位置处的测定光的光束的横截面的形状相符合的形状的端面；以及光检测器(9)，其设置于所述第2聚光点。由此，能够不使来自测定区域外的光入射到光检测器地、使更多的测定光入射到光检测器。 | ||
| 搜索关键词： | 显微 分析 装置 | ||
【主权项】：
1.一种显微分析装置，其特征在于，具备：a)聚光光学系统，其使从测定区域的试样发出的测定光聚光到第1聚光点；b)光阑板，其具有位于所述第1聚光点的开口；c)椭圆凹面镜，其使通过了所述开口的测定光反射而聚光到第2聚光点；d)遮蔽板，其配置于所述第2聚光点之前，且形成有以下贯通孔：该贯通孔具有与该位置处的测定光的光束的横截面的形状相符合的形状的端面；以及e)光检测器，其设置于所述第2聚光点。
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