[发明专利]衬底台、光刻设备和操作光刻设备的方法有效
| 申请号： | 201680081344.7 | 申请日： | 2016-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN108604067B | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | D·D·J·A·范索姆恩;C·H·M·伯尔蒂斯;H·S·布登贝格;G·L·加托比焦;J·C·P·梅尔曼;G·纳基布奥格卢;T·W·波莱;W·T·M·斯托尔斯;Y·J·G·范德费韦;J·P·范利斯豪特;J·A·维埃拉萨拉斯;A·N·兹德拉夫科夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 闫红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种衬底台(WT)配置成支撑衬底(W)以在浸没光刻设备中进行曝光，所述衬底台包括：支撑体(30)，所述支撑体具有被配置成支撑所述衬底的支撑表面(31)；和盖环(130)，所述盖环相对于所述支撑体是固定的并且被配置成在平面视图中看围绕支撑在所述支撑表面上的所述衬底，其中所述盖环具有上表面(60)；其中所述上表面的至少一部分(61)被配置成以便在沿着所述上表面朝向所述衬底移动时改变浸没液体的弯液面(17)的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 光刻 设备 操作 方法 | ||
【主权项】：
1.一种衬底台，所述衬底台被配置成支撑衬底以在浸没光刻设备中进行曝光，所述衬底台包括：支撑体，所述支撑体具有被配置成支撑所述衬底的支撑表面；和盖环，所述盖环相对于所述支撑体是固定的并且被配置成在平面视图中看围绕支撑在所述支撑表面上的所述衬底，其中所述盖环具有上表面；其中所述上表面的至少一部分被配置成以便在沿着所述上表面朝向所述衬底移动时改变浸没液体的弯液面的稳定性，从而使所述弯液面不稳定。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680081344.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
