[发明专利]光刻设备、用于卸载衬底的方法和用于装载衬底的方法有效
| 申请号： | 201680081242.5 | 申请日： | 2016-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN108604066B | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | A·B·热因克;R·F·J·马腾斯;Y·K·M·德沃斯;R·P·C·范多斯特;G·A·滕布林克;D·J·A·森登;C·H·M·巴尔蒂斯;J·J·H·格里特曾;J·M·卡姆明加;E·W·帕西蒂;T·波伊兹;A·C·沙伊贝利希;B·D·肖尔滕;A·施雷伊德;A·A·索伊硕特;S·A·特罗普;Y·J·G·范德威杰费 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/683;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;崔卿虎 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于从被配置为支撑衬底的支撑台卸载衬底的方法，该方法包括：经由支撑台中的多个气流开口向支撑台的基面与衬底之间的间隙供应气体，其中在初始卸载阶段期间，通过支撑台的外部区域中的至少一个气流开口而不是通过支撑台的在外部区域的径向向内的中央区域中的任何气流开口来供应气体，并且在随后卸载阶段期间，通过外部区域中的至少一个气流开口和中央区域中的至少一个气流开口来供应气体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 用于 卸载 衬底 方法 装载 | ||
【主权项】：
1.一种用于从被配置为支撑衬底的支撑台卸载所述衬底的方法，所述方法包括：经由所述支撑台中的多个气流开口向所述支撑台的基面与所述衬底之间的间隙供应气体，其中在初始卸载阶段期间，所述气体通过所述支撑台的外部区域中的至少一个气流开口而不是通过所述支撑台的在所述外部区域的径向向内的中央区域中的任何气流开口来被供应，以及在随后卸载阶段期间，所述气体通过所述外部区域中的至少一个气流开口和所述中央区域中的至少一个气流开口来被供应。
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