[发明专利]含水介质中元素的电化学沉积在审
| 申请号： | 201680080775.1 | 申请日： | 2016-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN108779566A | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | 胡纳德·努尔瓦拉;约翰·D·沃特金斯;周旭 | 申请（专利权）人： | 鲁米士德科技公司 |
| 主分类号： | C25D3/44 | 分类号： | C25D3/44;C25D9/08 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 艾娟;郑霞 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开内容涉及用于将至少一种金属电沉积到导电基底的表面上的方法。在一些实施方案中，电沉积在从约10℃至约70℃的温度、约0.5大气压至约5大气压、在包含氧气的气氛中进行。在一些实施方案中，该方法包括经由电化学还原被溶解在基本上含水的介质中的金属络合物来电沉积至少一种金属。 | ||
| 搜索关键词： | 电化学沉积 电化学还原 金属电沉积 金属络合物 含水介质 导电基 电沉积 含水 沉积 氧气 溶解 来电 金属 | ||
【主权项】：
1.一种用于在从约10℃至约70℃的温度、约0.5大气压至约5大气压、在包含氧气的气氛中将至少一种金属电沉积到导电基底的表面上的方法，所述方法包括经由电化学还原被溶解在基本上含水的介质中的金属络合物来电沉积所述至少一种金属。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鲁米士德科技公司，未经鲁米士德科技公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680080775.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电解池的电极结构及其相关方法
- 下一篇：端子料带的电镀方法
