[发明专利]光刻设备和操作光刻设备的方法有效
| 申请号： | 201680079692.0 | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN108475025B | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 金原淳一;H·巴特勒;P·C·H·德威特;E·A·F·范德帕斯奇 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种操作光刻设备的方法，该光刻设备包括：投影系统，配置成提供曝光辐射，用以使在投影系统下方的衬底形成图案；第一平台，配置成支撑第一衬底；第二平台，配置成支撑第二衬底；和第三平台，容纳包括传感器和清洁装置中的至少一个的部件；其中，该方法包括：在开始衬底交换操作之后开始曝光前争夺扫掠操作；其中，在曝光前争夺扫掠操作期间，第三平台移动远离投影系统的下方，而第二平台移动到投影系统的下方；其中，在衬底交换操作期间，从第一平台卸载第一衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 操作 方法 | ||
【主权项】：
1.一种操作光刻设备的方法，所述光刻设备包括：投影系统，配置成提供曝光辐射，用以使在所述投影系统下方的衬底形成图案；第一平台，配置成支撑第一衬底；第二平台，配置成支撑第二衬底；和第三平台，容纳包括传感器和清洁装置中的至少一个的部件；其中，所述方法包括：在开始衬底交换操作之后开始曝光前争夺扫掠操作；其中，在所述曝光前争夺扫掠操作期间，所述第三平台移动远离所述投影系统的下方，而所述第二平台移动到所述投影系统的下方；其中，在所述衬底交换操作期间，从所述第一平台卸载所述第一衬底。
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