[发明专利]防反射光学体的形成方法及显示面板有效
申请号: | 201680074464.4 | 申请日: | 2016-12-16 |
公开(公告)号: | CN108369294B | 公开(公告)日: | 2020-02-11 |
发明(设计)人: | 梶谷俊一 | 申请(专利权)人: | 迪睿合电子材料有限公司 |
主分类号: | G02B1/118 | 分类号: | G02B1/118;B32B7/023;B32B7/06;B32B9/00;C09J4/04;C09J5/00;C09J201/00 |
代理公司: | 11286 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 包跃华;金玉兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的防反射光学体(16a)的形成方法具备:将除了环氧系粘接剂之外的粘接剂(12)涂布于被粘体(11)的涂布工序;将在一面侧具备微细结构体(16)的基材膜(15)从与一面相对的另一面侧按压于被粘体(11)而利用粘接剂(12)将被粘体(11)与微细结构体(16)固着的固着工序;通过解除基材膜(15)的按压,并一边将由粘接剂(12)固着于被粘体(11)的微细结构体(16)从基材膜(15)上的除由粘接剂(12)固着的位置以外的微细结构体(16)分离,一边使由粘接剂(12)固着于被粘体(11)的微细结构体(16)从基材膜(15)剥离,从而将固着于被粘体(11)的微细结构体(16)作为防反射光学体(16a)而形成在被粘体(11)的剥离分离工序。 | ||
搜索关键词: | 被粘体 微细结构体 粘接剂 固着 基材膜 防反射 光学体 按压 剥离 分离工序 涂布工序 显示面板 环氧 | ||
【主权项】:
1.一种防反射光学体的形成方法,其特征在于,为防反射光学体在被粘体上的形成方法,所述防反射光学体的形成方法具备:/n涂布工序,将除了环氧系粘接剂之外的粘接剂涂布于所述被粘体;/n固着工序,将在一面侧具备微细结构体的基材膜从与所述一面相对的另一面侧按压于所述被粘体而利用所述粘接剂将所述被粘体与所述微细结构体固着;以及/n剥离分离工序,通过解除所述基材膜的按压,并一边将由所述粘接剂固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜上的除由所述粘接剂固着的位置以外的微细结构体分离,一边使由所述粘接剂固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜剥离,从而将固着于所述被粘体的微细结构体作为防反射光学体而形成在所述被粘体。/n
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