[发明专利]计量目标、方法和设备、计算机程序和光刻系统有效
| 申请号： | 201680069224.5 | 申请日： | 2016-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN108292108B | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | W·T·特尔;F·斯塔尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;崔卿虎 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种包括用于套刻和焦点的测量的组合目标的衬底。该目标包括：包括第一周期性结构的第一层；以及包括覆盖第一周期性结构的第二周期性结构的第二层。该目标具有结构不对称性，该结构不对称性包括由第一周期性结构与第二周期性结构之间的无意失配产生的结构不对称分量、由第一周期性结构与第二周期性结构之间的有意位置偏移产生的结构不对称分量、以及取决于在组合目标在衬底上的曝光期间的焦点设置的焦点相关结构不对称分量。还公开了一种用于形成这样的目标的方法以及相关联的光刻和计量设备。 | ||
| 搜索关键词： | 计量 目标 方法 设备 计算机 程序 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种包括用于套刻和焦点的测量的组合目标的衬底，所述目标包括：第一层，包括第一周期性结构；以及第二层，包括覆盖所述第一周期性结构的第二周期性结构；其中所述目标包括结构不对称性，所述结构不对称性包括由所述第一周期性结构与所述第二周期性结构之间的无意失配产生的结构不对称分量、由所述第一周期性结构与所述第二周期性结构之间的有意位置偏移产生的结构不对称分量、以及取决于在所述组合目标在所述衬底上的曝光期间的焦点设置的焦点相关结构不对称分量。
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