[发明专利]作为MDM2-P53抑制剂的新的螺(3H-吲哚-3,2′-吡咯烷)-2(1H)-酮化合物及其衍生物有效
申请号: | 201680058768.1 | 申请日: | 2016-10-07 |
公开(公告)号: | CN108137590B | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | A·格尔纳;J·布勒克;N·克雷斯;C·科芬克;J·莱姆哈特;H·魏因施塔贝尔;A·伊勒;S·戈阿佩;M·亨利;G·哈什莱 | 申请(专利权)人: | 勃林格殷格翰国际有限公司 |
主分类号: | C07D471/22 | 分类号: | C07D471/22;C07D487/22;A61K31/438;A61P35/00 |
代理公司: | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人: | 封新琴 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明包括式(I)化合物,其中基团R |
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搜索关键词: | 作为 mdm2 p53 抑制剂 吲哚 吡咯烷 化合物 及其 衍生物 | ||
【主权项】:
式(I)化合物
其中‑‑R1为任选经一或多个相同或不同的选自C1‑6烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C1‑6卤烷基、C3‑7环烷基、C4‑7环烯基、C6‑10芳基、5至10员杂芳基及3至10员杂环基之Rb1及/或Rc1取代之基团;各Rb1为独立地选自‑ORc1、‑NRc1Rc1、卤素、‑CN、‑C(O)Rc1、‑C(O)ORc1、‑C(O)NRc1Rc1、‑S(O)2Rc1、‑S(O)2NRc1Rc1、‑NHC(O)Rc1、‑N(C1‑4烷基)C(O)Rc1及二价取代基=O,然而,=O仅可为非芳族环系统中之取代基;各Rc1彼此独立地表示氢或任选经一或多个相同或不同的选自C1‑6烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C1‑6卤烷基、C3‑7环烷基、C4‑7环烯基、C6‑10芳基、5至10员杂芳基及3至10员杂环基之Rd1及/或Re1取代之基团;各Rd1为独立地选自‑ORe1、‑NRe1Re1、卤素、‑CN、‑C(O)Re1、‑C(O)ORe1、‑C(O)NRe1Re1、‑S(O)2Re1、‑S(O)2NRe1Re1、‑NHC(O)Re1、‑N(C1‑4烷基)C(O)Re1及二价取代基=O,然而,=O仅可为非芳族环系统中之取代基。各Re1彼此独立地表示氢或任选经一或多个相同或不同的选自C1‑6烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C1‑6卤烷基、C3‑7环烷基、C4‑7环烯基、C6‑10芳基、5至10员杂芳基及3至10员杂环基之Rf1及/或Rg1取代之基团;各Rf1为独立地选自‑ORg1、‑NRg1Rg1、卤素、‑CN、‑C(O)Rg1、‑C(O)ORg1、‑C(O)NRg1Rg1、‑S(O)2Rg1、‑S(O)2NRg1Rg1、‑NHC(O)Rg1、‑N(C1‑4烷基)C(O)Rg1及二价取代基=O,然而,=O仅可为非芳族环系统中之取代基;各Rg1为独立地选自氢、C1‑6烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C1‑6卤烷基、C3‑7环烷基、C4‑7环烯基、C6‑10芳基、5至10员杂芳基及3至10员杂环基;‑‑R2与R3为各自独立地选自氢、C6‑10芳基、5至10员杂芳基及3至10员杂环基,其中该C6‑10芳基、5至10员杂芳基及3至10员杂环基为任选经一或多个相同或不同Rb2及/或Rc2取代;各Rb2为独立地选自‑ORc2、‑NRc2Rc2、卤素、‑CN、‑C(O)Rc2、‑C(O)ORc2、‑C(O)NRc2Rc2、‑S(O)2Rc2、‑S(O)2NRc2Rc2、‑NHC(O)Rc2、‑N(C1‑4烷基)C(O)Rc2及二价取代基=O,然而,=O仅可为非芳族环系统中之取代基;各Rc2彼此独立地表示氢或任选经一或多个相同或不同的选自C1‑6烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C1‑6卤烷基、C3‑6环烷基、C4‑6环烯基、C6‑10芳基、5至10员杂芳基及3至10员杂环基之Rd2及/或Re2取代之基团;各Rd2为独立地选自‑ORe2、‑NRe2Re2、卤素、‑CN、‑C(O)Re2、‑C(O)ORe2、‑C(O)NRe2Re2、‑S(O)2Re2、‑S(O)2NRe2Re2、‑NHC(O)Re2、‑N(C1‑4烷基)C(O)Re2及二价取代基=O,然而,=O仅可为非芳族环系统中之取代基;各Re2彼此独立地表示氢或选自C1‑6烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C1‑6卤烷基、C3‑6环烷基、C4‑6环烯基、C6‑10芳基、5至10员杂芳基及3至10员杂环基之基团;‑‑若F为碳,则A为选自苯基及5至6员杂芳基,或若F为氮,则A为5至6员含氮杂芳基;各R4为独立地选自Ra4及Rb4;各Ra4彼此独立为任选经一或多个相同或不同的选自C1‑6烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C1‑6卤烷基、C3‑7环烷基、C4‑7环烯基、C6‑10芳基、5至10员杂芳基及3至10员杂环基之Rb4及/或Rc4取代之基团;各Rb4为独立地选自‑ORc4、‑NRc4Rc4、卤素、‑CN、‑C(O)Rc4、‑C(O)ORc4、‑C(O)NRc4Rc4、‑C(O)NRg4ORc4、‑S(O)2Rc4、‑S(O)2NRc4Rc4、‑NHSO2Rc4、‑N(C1‑4烷基)SO2Rc4、‑NHC(O)Rc4及‑N(C1‑4烷基)C(O)Rc4;各Rc4彼此独立地表示氢或任选经一或多个相同或不同的选自C1‑6烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C1‑6卤烷基、C3‑7环烷基、C4‑7环烯基、C6‑10芳基、5至10员杂芳基及3至10员杂环基之Rd4及/或R<
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