[发明专利]用于阻断紫外线的化妆料组合物及其制备方法在审
| 申请号： | 201680056047.7 | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN108135795A | 公开（公告）日： | 2018-06-08 |
| 发明（设计）人： | 金姃恩;朴贞银;蔡秉根;姜炳永 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱茉莉太平洋 |
| 主分类号： | A61K8/19 | 分类号： | A61K8/19;A61K8/27;A61K8/29;A61K8/84;A61K8/02;A61Q17/04;A61Q19/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;赵赫 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及化妆料组合物及其制备方法，所述化妆料组合物为将环磨底物进行环磨分散的用于阻断紫外线的化妆料组合物，所述环磨底物包含无机粉末粒子，所述无机粉末粒子的平均粒子尺寸为5nm～2000nm。 | ||
| 搜索关键词： | 化妆料 无机粉末粒子 紫外线 底物 制备 粒子 | ||
【主权项】：
化妆料组合物，其为将环磨底物进行环磨分散的用于阻断紫外线的化妆料组合物，所述环磨底物包含无机粉末粒子，所述无机粉末粒子的平均粒子尺寸为5nm～2000nm。
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