[发明专利]通过原位还原氧化石墨烯生产聚合物/还原氧化石墨烯纳米复合材料的方法和系统在审
| 申请号： | 201680044229.2 | 申请日： | 2016-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN107848806A | 公开（公告）日： | 2018-03-27 |
| 发明（设计）人： | 菲利普·普兰;苏彻特拉·帕德玛简·萨斯卡拉;西里尔·艾莫尼耶 | 申请（专利权）人： | 国立科学研究中心 |
| 主分类号： | C01B32/184 | 分类号： | C01B32/184 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 | 代理人： | 沈敬亭,李海霞 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于还原由至少一种氧化石墨烯和由至少一种聚合物组成的基质所构成的组分的方法和装置，其特征在于所述方法包括至少以下步骤a)将一种或多种聚合物和氧化石墨烯GO的混合物引入到反应器(10)中，所述反应器经受适于将流体置于超临界或亚临界条件下的温度T值和压力P值给定的时间段，所述温度T适合于不降解聚合物，和b)将反应器(10)冷却并取出获得的由还原的一种或多种聚合物和氧化石墨烯rGO组成的产物R。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 原位 还原 氧化 石墨 生产 聚合物 纳米 复合材料 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种用于在包含至少一种聚合物基质的复合材料组分内还原至少一种氧化石墨烯的方法，其特征在于，它包括至少以下阶段：a)将由至少一种聚合物和氧化石墨烯GO组成的复合材料引入到反应器(10)中，所述反应器经受适于将流体置于超临界或亚临界条件下的温度T值和压力P值给定的时间段，所述温度T适合于不分解所述聚合物，b)将反应器(10)冷却并取出获得的由至少一种聚合物基质和还原的氧化石墨烯rGO组成的产物R。
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