[发明专利]光照射装置在审
| 申请号： | 201680044022.5 | 申请日： | 2016-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN107923854A | 公开（公告）日： | 2018-04-17 |
| 发明（设计）人： | 八木一乃大;宫武笃史 | 申请（专利权）人： | CCS株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/84 | 分类号： | G01N21/84 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司31300 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光照射装置(100)，为了能够不使照射到工件(W)的光量降低地从多个方向拍摄工件(W)表面，具有与工件(W)对置的发光面(11)，且形成有使由所述工件(W)反射的光从发光面侧向该发光面侧的相反侧通过的狭缝(S)，其中，狭缝(S)形成为宽度从发光面(11)侧向该发光面(11)的相反侧缓缓变宽的锥形状。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 装置 | ||
【主权项】：
一种光照射装置，其具备与工件对置的发光面，且在所述光照射装置上形成有使由所述工件反射的光从发光面侧向该发光面侧的相反侧通过的狭缝，所述光照射装置的特征在于，所述狭缝是宽度从发光面侧向该发光面侧的相反侧缓缓变宽的形状。
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