[发明专利]光学积层体的制造方法有效
| 申请号： | 201680041612.2 | 申请日： | 2016-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN107848266B | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | 村重毅;稻垣淳一;细川和人 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B32B17/10 | 分类号： | B32B17/10;C03B17/06;C03C17/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 朴渊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种即便使用薄玻璃制造效率也优异的光学积层体的制造方法。本发明的光学积层体的制造方法包括：薄玻璃制造步骤，其制造厚度为100μm以下的薄玻璃；积层步骤，其在该薄玻璃的单面或两面积层光学膜；该薄玻璃制造步骤及该积层步骤在连续线进行，在该积层步骤中，在该薄玻璃受到支撑的状态下，在该薄玻璃上贴合该光学膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 积层体 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学积层体的制造方法，包括：薄玻璃制造步骤，其制造厚度为100μm以下的薄玻璃；及积层步骤，其在该薄玻璃的单面或两面积层光学膜；该薄玻璃制造步骤及该积层步骤在连续线进行，在该积层步骤中，在该薄玻璃受到支撑的状态下，在该薄玻璃上贴合该光学膜。
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