[发明专利]用于使显微镜自动聚焦到基片上的方法、系统及装置有效

专利信息
申请号: 201680010883.1 申请日: 2016-02-11
公开(公告)号: CN107407551B 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: T·D·希尔兹;R·J·费伊;D·J·沃德尼克;S·Y·博瑞兹哈纳;M·詹巴克哈什;K·T·查科 申请(专利权)人: 雅培实验室
主分类号: G01B9/04 分类号: G01B9/04;G02B7/28
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 杜文树
地址: 美国伊*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种用于使显微镜自动聚焦到样本上并采集所述样本的已聚焦图像的方法、系统及装置。所述方法的各个方面包括:在显微镜中检测基片的存在、判定所述基片是否处于用于成像的正确定向上、使所述显微镜聚焦到放置在所述基片上的样本上、以及采集所述样本的一个或多个图像。还提供了用于执行所述主题方法的系统和装置。
搜索关键词: 用于 显微镜 自动 聚焦 到基片上 方法 系统 装置
【主权项】:
一种用于使显微镜自动聚焦到样本上的方法,所述方法包括:将基片基本上垂直于所述显微镜的光轴放置,其中所述基片包括所述样本;引导来自光源的光束从所述样本反射以产生反射光束;改变所述基片与所述显微镜的物镜之间的距离;利用检测器采集所述反射光束的一个或多个特性的多个测量值,其中在所述基片相对于所述物镜位于沿着所述显微镜的光轴的不同位置时采集所述多个测量值中的每一个测量值;确定具有最佳焦距值的测量值;将所述基片和/或所述物镜移动到初始聚焦位置,所述初始聚焦位置对应于所述基片和所述物镜之间对所述反射光束的测量值具有所述最佳焦距值的距离;通过沿着所述光轴将所述基片和/或所述物镜移动到所述初始聚焦位置上方和/或下方来采集所述基片的多个数字图像;至少分析每个图像中的兴趣区域以确定每个图像的焦点度量;确定哪个图像具有最佳焦点度量;以及将所述基片和/或所述物镜移动到最终聚焦位置,所述最终聚焦位置对应于所述图像的具有用于使所述显微镜自动聚焦到所述样本上的所述最佳焦点度量的位置。
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