[发明专利]蚀刻液及蚀刻方法有效
| 申请号： | 201680007726.5 | 申请日： | 2016-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN107208280B | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 荻野悠贵;东嶋真美;林崎将大;王谷稔 | 申请（专利权）人： | MEC股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/44 | 分类号： | C23F1/44;C23F1/26;C23G5/032;C23G5/036 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李英艳;张永康 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种蚀刻液及使用该蚀刻液的蚀刻方法，所述蚀刻液可在铜的存在下选择性地蚀刻钛，而且毒性低，保存稳定性优异。本发明的蚀刻液含有选自由硫酸、盐酸及三氯乙酸所组成的群组中的至少一种酸与选自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所组成的群组中的至少一种有机硫化合物，可在铜的存在下选择性地蚀刻钛。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液，其特征在于，用来在铜的存在下选择性地蚀刻钛，并且含有：选自由硫酸、盐酸及三氯乙酸所组成的群组中的至少一种酸；以及硫醚系化合物，所述硫醚系化合物的浓度为0.01重量％至10重量％。
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