[发明专利]静磁场均匀度调整方法、静磁场均匀度调整装置以及计算机有效
| 申请号： | 201680004608.9 | 申请日： | 2016-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN107205687B | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 藤川拓也;阿部充志;榊原健二;花田光 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | A61B5/055 | 分类号： | A61B5/055;G01R33/3873 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘慧群 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 为了提供一种能够在磁场均匀度调整中减少磁性体片的配置量，且能够高精度地达成期望的磁场均匀度的静磁场均匀度调整方法，对于通过磁场产生装置产生的摄像空间中的静磁场，通过匀场计算来计算多个磁性体片从所述摄像空间离开的位置，将所述多个磁性体片配置在通过该匀场计算得到的位置，从而调整所述摄像空间中的静磁场均匀度，该方法的特征在于，包括：调整步骤，在所述匀场计算时，施加使配置于所述位置的所述磁性体片在所述摄像空间生成的磁场分布的极性为正负中的任一者这样的制约，来调整所述静磁场均匀度。 | ||
| 搜索关键词： | 磁场 均匀 调整 方法 装置 以及 计算机 | ||
【主权项】：
一种磁共振成像装置的静磁场均匀度调整方法，对于通过磁场产生装置产生的摄像空间中的静磁场，通过匀场计算来计算多个磁性体片从所述摄像空间离开的位置，将所述多个磁性体片配置在通过该匀场计算得到的位置，从而调整所述摄像空间中的静磁场均匀度，该方法的特征在于，包括：调整步骤，在所述匀场计算时，施加使配置于所述位置的所述磁性体片在所述摄像空间生成的磁场分布的极性为正负中的任一者这样的制约，来调整所述静磁场均匀度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所，未经株式会社日立制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680004608.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种便于安装的防静电地板
- 下一篇：一种办公室新型地板结构
