[发明专利]低压喷射头构造有效
申请号: | 201680002734.0 | 申请日: | 2016-04-19 |
公开(公告)号: | CN106714975B | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 埃弗雷特·A·文策尔;罗斯·D·罗素纳;刘婉娇 | 申请(专利权)人: | 瓦格纳喷涂技术有限公司 |
主分类号: | B05B1/34 | 分类号: | B05B1/34;B05B1/26 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 杨飞 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开一种用于低压流体喷射器的喷射头构造(750)。所述喷射头构造包括:入口孔(786),所述入口孔被构造成接收流体并在已知的操作点产生湍流。所述喷射头构造(750)还包括出口孔(788),所述出口孔被构造成以一湍流强度下的喷射图案喷射所述流体。所述喷射头构造(750)还包括通道(790),所述通道将所述入口孔(786)流体联接到所述出口孔(788),所述通道包括被构造为在所述出口孔(788)处产生所述湍流强度的多个部分。所述通道(790)包括:第一部分(768),所述第一部分包括扩张室,所述扩张室被构造为提供从第一部分第一端到第一部分第二端的扩张横截面。所述所述通道(790)还包括第二部分(780),所述第二部分包括第一液压直径(763),其中所述第二部分在第二部分第一端上流体联接到第一部分第二端。所述通道(790)还包括第三部分(776),所述第三部分包括第二液压直径(754),其中所述第三部分(776)在第三部分第二(一)端上流体联接到所述第二部分(780)。所述通道(790)还包括第四部分(774),所述第四部分包括喷射头,其中所述第四部分(774)在第四部分第一端上流体联接到第三部分第二端,并且在第四部分第二端上流体联接到所述出口孔(788)。 | ||
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【主权项】:
一种用于低压流体喷射器的喷射头构造,所述喷射头构造包括:入口孔,所述入口孔被构造成接收流体并在已知的操作点产生湍流;出口孔,所述出口孔被构造成以一湍流强度下的喷射图案喷射所述流体;和通道,所述通道将所述入口孔流体联接到所述出口孔,所述通道包括被构造为在所述出口孔处产生所述湍流强度的多个部分,所述通道包括:第一部分,所述第一部分包括扩张室,所述扩张室被构造为提供从第一部分第一端到第一部分第二端的扩张横截面;第二部分,所述第二部分包括第一液压直径,其中所述第二部分在第二部分第一端上流体联接到第一部分第二端;第三部分,所述第三部分包括第二液压直径,其中所述第三部分在第三部分第二端上流体联接到所述第二部分;以及第四部分,所述第四部分包括喷射头,其中所述第四部分在第四部分第一端上流体联接到第三部分第二端,并且在第四部分第二端上流体联接到所述出口孔。
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