[实用新型]一种与磁力支架相互配合的后壳结构有效
| 申请号： | 201620750042.1 | 申请日： | 2016-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN205793824U | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 陈挺轩 | 申请（专利权）人： | 总汇国际有限公司 |
| 主分类号： | H05K5/02 | 分类号： | H05K5/02 |
| 代理公司： | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)32260 | 代理人： | 张欢勇 |
| 地址： | 英属维尔京群 岛托托拉*** | 国省代码： | 维尔京群岛;VG |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种与磁力支架相互配合的后壳结构，包括后壳和能被磁力支架吸附的材料制成的吸附基片；后壳的内侧设有凹槽；吸附基片的厚度与凹槽的深度相同；吸附基片固定在凹槽内。采用本方案后：1、不影响对象的外观和使用。2、不需要外置吸附基片在对象表面，不影响使用其他支架。3、无需对外壳做改装。4、内侧开凹槽的设计让磁力支架能够将对象吸附固定牢固。5、凹槽与吸附基片相互配合，使用过程中吸附基片不会移位，减低了对象跌落摔坏的风险。6、对后壳的整体设计无任何影响。7、不会使对象内的零件产生不良影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁力 支架 相互 配合 结构 | ||
【主权项】：
一种与磁力支架相互配合的后壳结构，其特征在于：包括后壳和能够被磁力支架所吸附的材料制成的吸附基片；所述后壳的内侧设有凹槽；所述吸附基片的厚度与凹槽的深度相同；所述吸附基片固定在凹槽内。
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